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学生党如何自W,14没有工具怎么自w到高c 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月24日消息(xī),国家知识产(chǎn)权(quán)局局长申长雨在新闻发(fā)布会(huì)上表示,将(jiāng)统筹推进各类(lèi)知(zhī)识产权法律法规和制度规则(zé)的制修(x学生党如何自W,14没有工具怎么自w到高ciū)订工作(zuò)。其(qí)中,修改完善集成电路(lù)布图设计(jì)保护条例,适(shì)应大规模集成电路(lù)发(fā)展需(xū)要,助力(lì)芯片(piàn)产业做大做强(qiáng),服务(wù)数字经济更好发展。

  加强(qiáng)大数据、人工智能、基因技术等新领域新业(yè)态知识产权规(guī)则研究(jiū),助力相关(guān)领域创新发展。同时(shí),积极参与知识产权国际规则制(zhì)定,更好对接高标准国际经贸(mào)规则,助(zhù)力高水平(píng)对外开放。

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